酸化ガリウム:次世代パワー半導体素材としての期待

次世代素材である**酸化ガリウム**(Ga₂O₃)が、超ワイドバンドギャップ(UWBG)**半導体**材料として注目を集めている。**炭化ケイ素**(SiC)や**窒化ガリウム**(GaN)を上回る絶縁破壊電界強度を持ち、高電圧・高効…

要点

  • 次世代素材である**酸化ガリウム**(Ga₂O₃)が、超ワイドバンドギャップ(UWBG)**半導体**材料として注目を集めている。**炭化ケイ素**(SiC)や**窒化ガリウム**(GaN)を上回る絶縁破壊電界強度を持ち、高電圧・高効率な電力制御が可能なため、EVやデータセンターの電源効率化のゲームチェンジャーとして期待されている。
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なぜ今注目か

次世代半導体関連銘柄への資金流入を促すテーマ性があり、テクノロジーセクター全体の底上げに寄与する可能性がある。

次世代半導体関連銘柄への資金流入を促すテーマ性があり、テクノロジーセクター全体の底上げに寄与する可能性がある。

強気材料と警戒材料

強気材料

公開情報をもとにした材料整理です。

警戒材料

不確実性を前提に確認が必要です。

関連銘柄

6768 タムラ製作所

グループ企業を通じて酸化ガリウムウェハの量産化に先行しており、この分野のフロントランナーとして評価されている。

5201 AGC

酸化ガリウム結晶成長技術において重要な基板技術を有しており、先端材料分野への参入が評価されている。

4188 三菱ケミカルグループ

半導体材料全般をカバーしており、酸化ガリウム関連の素材提供・開発でポートフォリオの優位性を発揮する。

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