酸化ガリウム:次世代パワー半導体素材としての期待
次世代素材である**酸化ガリウム**(Ga₂O₃)が、超ワイドバンドギャップ(UWBG)**半導体**材料として注目を集めている。**炭化ケイ素**(SiC)や**窒化ガリウム**(GaN)を上回る絶縁破壊電界強度を持ち、高電圧・高効…
要点
- 次世代素材である**酸化ガリウム**(Ga₂O₃)が、超ワイドバンドギャップ(UWBG)**半導体**材料として注目を集めている。**炭化ケイ素**(SiC)や**窒化ガリウム**(GaN)を上回る絶縁破壊電界強度を持ち、高電圧・高効率な電力制御が可能なため、EVやデータセンターの電源効率化のゲームチェンジャーとして期待されている。
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次世代半導体関連銘柄への資金流入を促すテーマ性があり、テクノロジーセクター全体の底上げに寄与する可能性がある。
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